సిలికాన్ కార్బైడ్ పొర ఉత్పత్తి ప్రక్రియ

సిలికాన్ కార్బైడ్ పొరఅధిక స్వచ్ఛత సిలికాన్ పౌడర్ మరియు అధిక స్వచ్ఛత కార్బన్ పౌడర్‌తో ముడి పదార్థాలుగా తయారు చేయబడింది మరియు సిలికాన్ కార్బైడ్ క్రిస్టల్ భౌతిక ఆవిరి బదిలీ పద్ధతి (PVT) ద్వారా పెంచబడుతుంది మరియు ప్రాసెస్ చేయబడుతుందిసిలికాన్ కార్బైడ్ పొర.

① ముడి పదార్థం సంశ్లేషణ. అధిక స్వచ్ఛత సిలికాన్ పౌడర్ మరియు అధిక స్వచ్ఛత కార్బన్ పౌడర్ ఒక నిర్దిష్ట నిష్పత్తి ప్రకారం కలపబడ్డాయి మరియు సిలికాన్ కార్బైడ్ కణాలు 2,000℃ కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రత వద్ద సంశ్లేషణ చేయబడ్డాయి. అణిచివేయడం, శుభ్రపరచడం మరియు ఇతర ప్రక్రియల తర్వాత, క్రిస్టల్ పెరుగుదల అవసరాలను తీర్చగల అధిక స్వచ్ఛత సిలికాన్ కార్బైడ్ పౌడర్ ముడి పదార్థాలు తయారు చేయబడతాయి.

② క్రిస్టల్ పెరుగుదల. అధిక స్వచ్ఛత కలిగిన SIC పౌడర్‌ను ముడి పదార్థంగా ఉపయోగించి, క్రిస్టల్‌ను భౌతిక ఆవిరి బదిలీ (PVT) పద్ధతిలో స్వీయ-అభివృద్ధి చెందిన క్రిస్టల్ గ్రోత్ ఫర్నేస్‌ని ఉపయోగించి పెంచారు.

③ కడ్డీ ప్రాసెసింగ్. పొందిన సిలికాన్ కార్బైడ్ క్రిస్టల్ కడ్డీని ఎక్స్-రే సింగిల్ క్రిస్టల్ ఓరియంటేటర్ ద్వారా ఓరియంటెట్ చేసి, తర్వాత గ్రౌండ్ చేసి రోల్ చేసి, ప్రామాణిక వ్యాసం కలిగిన సిలికాన్ కార్బైడ్ క్రిస్టల్‌గా ప్రాసెస్ చేశారు.

④ క్రిస్టల్ కటింగ్. బహుళ-లైన్ కట్టింగ్ పరికరాలను ఉపయోగించి, సిలికాన్ కార్బైడ్ స్ఫటికాలు 1 మిమీ కంటే ఎక్కువ మందంతో సన్నని షీట్లుగా కత్తిరించబడతాయి.

⑤ చిప్ గ్రౌండింగ్. వివిధ కణ పరిమాణాల డైమండ్ గ్రౌండింగ్ ద్రవాల ద్వారా పొర కావలసిన ఫ్లాట్‌నెస్ మరియు కరుకుదనానికి గ్రౌండ్ అవుతుంది.

⑥ చిప్ పాలిషింగ్. మెకానికల్ పాలిషింగ్ మరియు కెమికల్ మెకానికల్ పాలిషింగ్ ద్వారా ఉపరితల నష్టం లేకుండా పాలిష్ సిలికాన్ కార్బైడ్ పొందబడింది.

⑦ చిప్ గుర్తింపు. మైక్రోటూబ్యూల్ సాంద్రత, క్రిస్టల్ నాణ్యత, ఉపరితల కరుకుదనం, రెసిస్టివిటీ, వార్‌పేజ్, వక్రత, వంటి వాటిని గుర్తించడానికి ఆప్టికల్ మైక్రోస్కోప్, ఎక్స్-రే డిఫ్రాక్టోమీటర్, అటామిక్ ఫోర్స్ మైక్రోస్కోప్, నాన్-కాంటాక్ట్ రెసిస్టివిటీ టెస్టర్, సర్ఫేస్ ఫ్లాట్‌నెస్ టెస్టర్, సర్ఫేస్ డిఫెక్ట్ కాంప్రెహెన్సివ్ టెస్టర్ మరియు ఇతర సాధనాలు మరియు పరికరాలను ఉపయోగించండి. మందం మార్పు, ఉపరితల గీతలు మరియు సిలికాన్ కార్బైడ్ పొర యొక్క ఇతర పారామితులు. దీని ప్రకారం, చిప్ యొక్క నాణ్యత స్థాయి నిర్ణయించబడుతుంది.

⑧ చిప్ శుభ్రపరచడం. పాలిషింగ్ షీట్‌లోని అవశేష పాలిషింగ్ లిక్విడ్ మరియు ఇతర ఉపరితల మురికిని తొలగించడానికి సిలికాన్ కార్బైడ్ పాలిషింగ్ షీట్ శుభ్రపరిచే ఏజెంట్ మరియు స్వచ్ఛమైన నీటితో శుభ్రం చేయబడుతుంది, ఆపై పొరను అల్ట్రా-హై ప్యూరిటీ నైట్రోజన్ మరియు డ్రైయింగ్ మెషిన్ ద్వారా ఎగిరిపోయి పొడిగా కదిలిస్తారు; దిగువన ఉపయోగించడానికి సిద్ధంగా ఉన్న సిలికాన్ కార్బైడ్ పొరను రూపొందించడానికి పొరను సూపర్-క్లీన్ ఛాంబర్‌లోని క్లీన్ షీట్ బాక్స్‌లో కప్పి ఉంచారు.

చిప్ పరిమాణం పెద్దది, సంబంధిత క్రిస్టల్ గ్రోత్ మరియు ప్రాసెసింగ్ టెక్నాలజీ మరింత క్లిష్టంగా ఉంటుంది మరియు దిగువ పరికరాల తయారీ సామర్థ్యం ఎక్కువగా ఉంటే, యూనిట్ ధర తక్కువగా ఉంటుంది.