వివరణ
మా కంపెనీ అందిస్తుందిSiC పూతగ్రాఫైట్, సిరామిక్స్ మరియు ఇతర పదార్థాల ఉపరితలంపై CVD పద్ధతి ద్వారా సేవలను ప్రాసెస్ చేస్తుంది, తద్వారా కార్బన్ మరియు సిలికాన్ కలిగిన ప్రత్యేక వాయువులు అధిక స్వచ్ఛత SiC అణువులను పొందేందుకు అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద ప్రతిస్పందిస్తాయి, పూత పదార్థాల ఉపరితలంపై నిక్షిప్తం చేయబడిన అణువులను ఏర్పరుస్తాయి.SiC రక్షిత పొర.
ప్రధాన లక్షణాలు
1. అధిక ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ నిరోధకత:
ఉష్ణోగ్రత 1600 C కంటే ఎక్కువగా ఉన్నప్పుడు ఆక్సీకరణ నిరోధకత చాలా బాగుంది.
2. అధిక స్వచ్ఛత: అధిక ఉష్ణోగ్రత క్లోరినేషన్ స్థితిలో రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ద్వారా తయారు చేయబడింది.
3. ఎరోషన్ నిరోధకత: అధిక కాఠిన్యం, కాంపాక్ట్ ఉపరితలం, చక్కటి కణాలు.
4. తుప్పు నిరోధకత: యాసిడ్, క్షార, ఉప్పు మరియు సేంద్రీయ కారకాలు.
CVD-SIC కోటింగ్ యొక్క ప్రధాన లక్షణాలు
| SiC-CVD లక్షణాలు | ||
| క్రిస్టల్ నిర్మాణం | FCC β దశ | |
| సాంద్రత | g/cm ³ | 3.21 |
| కాఠిన్యం | వికర్స్ కాఠిన్యం | 2500 |
| ధాన్యం పరిమాణం | μm | 2~10 |
| రసాయన స్వచ్ఛత | % | 99.99995 |
| ఉష్ణ సామర్థ్యం | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| సబ్లిమేషన్ ఉష్ణోగ్రత | ℃ | 2700 |
| Felexural బలం | MPa (RT 4-పాయింట్) | 415 |
| యంగ్స్ మాడ్యులస్ | Gpa (4pt బెండ్, 1300℃) | 430 |
| థర్మల్ విస్తరణ (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| ఉష్ణ వాహకత | (W/mK) | 300 |
పరికరాలు
