RTPCVD SiC రింగ్‌లుఅధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు తినివేయు వాతావరణాలలో పారిశ్రామిక మరియు శాస్త్రీయ రంగాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడతాయి. సెమీకండక్టర్ తయారీ, ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్స్, ఖచ్చితత్వ యంత్రాలు మరియు రసాయన పరిశ్రమలో ఇది ముఖ్యమైన పాత్ర పోషిస్తుంది. నిర్దిష్ట అనువర్తనాలు ఉన్నాయి:
1. సెమీకండక్టర్ తయారీ:RTP CVD SiC రింగ్‌లుసెమీకండక్టర్ పరికరాలను వేడి చేయడం మరియు శీతలీకరణ చేయడం, స్థిరమైన ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణను అందించడం మరియు ప్రక్రియ యొక్క ఖచ్చితత్వం మరియు స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారించడం కోసం ఉపయోగించవచ్చు.
2. ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్స్: దాని అద్భుతమైన ఉష్ణ వాహకత మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత కారణంగా, RTPCVD SiC రింగ్‌లులేజర్‌లు, ఫైబర్ ఆప్టిక్ కమ్యూనికేషన్ పరికరాలు మరియు ఆప్టికల్ భాగాలకు మద్దతు మరియు వేడిని వెదజల్లే పదార్థాలుగా ఉపయోగించవచ్చు.
3. ప్రెసిషన్ మెషినరీ: RTP CVD SiC రింగ్‌లను అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు తినివేయు వాతావరణాలలో, అధిక ఉష్ణోగ్రత ఫర్నేసులు, వాక్యూమ్ పరికరాలు మరియు రసాయన రియాక్టర్‌లు వంటి ఖచ్చితత్వ సాధనాలు మరియు పరికరాల కోసం ఉపయోగించవచ్చు.
4. రసాయన పరిశ్రమ: తుప్పు నిరోధకత మరియు రసాయన స్థిరత్వం కారణంగా, RTP CVD SiC రింగులను కంటైనర్లు, పైపులు మరియు రసాయన ప్రతిచర్యలు మరియు ఉత్ప్రేరక ప్రక్రియలలో రియాక్టర్లలో ఉపయోగించవచ్చు.
ఎపి సిస్టమ్
RTP వ్యవస్థ
CVD సిస్టమ్
ఉత్పత్తి పనితీరు:
1. 28nm కంటే తక్కువ ప్రాసెస్‌ని చేరుకోండి
2. సూపర్ తుప్పు నిరోధకత
3. సూపర్ క్లీన్ పనితీరు
4. సూపర్ కాఠిన్యం
5. అధిక సాంద్రత
6. అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత
7. వేర్ రెసిస్టెన్స్
ఉత్పత్తి అప్లికేషన్:
సిలికాన్ కార్బైడ్ పదార్థాలు అధిక కాఠిన్యం, దుస్తులు నిరోధకత, తుప్పు నిరోధకత మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం యొక్క లక్షణాలను కలిగి ఉంటాయి. అద్భుతమైన సమగ్ర పనితీరు కలిగిన ఉత్పత్తులు డ్రై ఎచింగ్ మరియు TF/డిఫ్యూజన్ ప్రక్రియలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడతాయి.
ఉత్పత్తి పనితీరు:
1. 28nm కంటే తక్కువ ప్రాసెస్‌ని చేరుకోండి
2. సూపర్ తుప్పు నిరోధకత
3. సూపర్ క్లీన్ పనితీరు
4. సూపర్ కాఠిన్యం
5. అధిక సాంద్రత
6. అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత
7. వేర్ రెసిస్టెన్స్
మిశ్రమ ప్రక్రియ అభివృద్ధి:
గ్రాఫైట్ +Sic పూత
సాలిడ్ CvD sic
సింటెర్డ్ SiC+CVD
SicSintered SiC
బహుళ ఉత్పత్తి రకం అభివృద్ధి:
రింగ్
పట్టిక
ససెప్టర్
షవర్ హెడ్
