సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత పరిచయం
మా రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) పూత అనేది అత్యంత మన్నికైన మరియు ధరించే-నిరోధక పొర, ఇది అధిక తుప్పు మరియు ఉష్ణ నిరోధకతను కోరుకునే వాతావరణాలకు అనువైనది.సిలికాన్ కార్బైడ్ పూతCVD ప్రక్రియ ద్వారా వివిధ సబ్‌స్ట్రేట్‌లపై సన్నని పొరలలో వర్తించబడుతుంది, ఇది అత్యుత్తమ పనితీరు లక్షణాలను అందిస్తుంది.
కీ ఫీచర్లు
● -అసాధారణ స్వచ్ఛత: యొక్క అల్ట్రా-ప్యూర్ కంపోజిషన్‌ను కలిగి ఉంది99.99995%, మాSiC పూతసున్నితమైన సెమీకండక్టర్ కార్యకలాపాలలో కాలుష్య ప్రమాదాలను తగ్గిస్తుంది.
● -సుపీరియర్ రెసిస్టెన్స్: దుస్తులు మరియు తుప్పు రెండింటికీ అద్భుతమైన ప్రతిఘటనను ప్రదర్శిస్తుంది, సవాలు చేసే రసాయన మరియు ప్లాస్మా సెట్టింగ్‌లకు ఇది సరైనది.
● -అధిక ఉష్ణ వాహకత: అత్యుత్తమ ఉష్ణ లక్షణాల కారణంగా తీవ్ర ఉష్ణోగ్రతలలో విశ్వసనీయ పనితీరును నిర్ధారిస్తుంది.
● -డైమెన్షనల్ స్టెబిలిటీ: తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం కారణంగా, అనేక రకాల ఉష్ణోగ్రతలలో నిర్మాణ సమగ్రతను నిర్వహిస్తుంది.
● -మెరుగైన కాఠిన్యం: కాఠిన్యం రేటింగ్‌తో40 GPa, మా SiC పూత గణనీయమైన ప్రభావం మరియు రాపిడిని తట్టుకుంటుంది.
● -స్మూత్ సర్ఫేస్ ఫినిష్: అద్దం లాంటి ముగింపుని అందిస్తుంది, కణ ఉత్పత్తిని తగ్గిస్తుంది మరియు కార్యాచరణ సామర్థ్యాన్ని పెంచుతుంది.
అప్లికేషన్లు
సెమిసెరా SiC పూతలుసెమీకండక్టర్ తయారీలో వివిధ దశల్లో ఉపయోగించబడతాయి, వీటిలో:
● -LED చిప్ ఫాబ్రికేషన్
● -పాలీసిలికాన్ ఉత్పత్తి
● -సెమీకండక్టర్ క్రిస్టల్ గ్రోత్
● -సిలికాన్ మరియు SiC ఎపిటాక్సీ
● -థర్మల్ ఆక్సీకరణ మరియు వ్యాప్తి (TO&D)
మేము అధిక-బలం ఉన్న ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్, కార్బన్ ఫైబర్-రీన్ఫోర్స్డ్ కార్బన్ మరియు 4N రీక్రిస్టలైజ్డ్ సిలికాన్ కార్బైడ్ నుండి రూపొందించిన SiC-కోటెడ్ భాగాలను సరఫరా చేస్తాము, ఇది ఫ్లూయిడ్-బెడ్ రియాక్టర్ల కోసం రూపొందించబడింది,PECVD, సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ, MOCVD ప్రక్రియలలో ఉపయోగించే STC-TCS కన్వర్టర్‌లు, CZ యూనిట్ రిఫ్లెక్టర్‌లు, SiC వేఫర్ బోట్, SiCwafer పాడిల్, SiC వేఫర్ ట్యూబ్ మరియు పొర క్యారియర్‌లు.
ప్రయోజనాలు
● -పొడిగించిన జీవితకాలం: పరికరాల పనికిరాని సమయం మరియు నిర్వహణ ఖర్చులను గణనీయంగా తగ్గిస్తుంది, మొత్తం ఉత్పత్తి సామర్థ్యాన్ని పెంచుతుంది.
● -మెరుగైన నాణ్యత: సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్ కోసం అవసరమైన అధిక స్వచ్ఛత ఉపరితలాలను సాధిస్తుంది, తద్వారా ఉత్పత్తి నాణ్యతను పెంచుతుంది.
● -పెరిగిన సామర్థ్యం: థర్మల్ మరియు CVD ప్రక్రియలను ఆప్టిమైజ్ చేస్తుంది, ఫలితంగా తక్కువ సైకిల్ సమయాలు మరియు అధిక దిగుబడి వస్తుంది.
సాంకేతిక లక్షణాలు
● -నిర్మాణం: FCC β ఫేజ్ పాలీక్రిస్టలైన్, ప్రధానంగా (111)ఓరియెంటెడ్
● -సాంద్రత: 3.21 గ్రా/సెం³
● -కాఠిన్యం: 2500 విక్స్ కాఠిన్యం (500గ్రా లోడ్)
● -ఫ్రాక్చర్ దృఢత్వం: 3.0 MPa·m1/2
● -థర్మల్ విస్తరణ గుణకం (100–600 °C): 4.3 x 10-6k-1
● -ఎలాస్టిక్ మాడ్యులస్(1300℃):435 GPa
● -విలక్షణ ఫిల్మ్ మందం:100 µm
● -ఉపరితల కరుకుదనం:2-10 µm
స్వచ్ఛత డేటా (గ్లో డిశ్చార్జ్ మాస్ స్పెక్ట్రోస్కోపీ ద్వారా కొలుస్తారు)
| మూలకం | ppm | మూలకం | ppm |
| Li | < 0.001 | Cu | < 0.01 |
| Be | < 0.001 | Zn | < 0.05 |
| అల్ | < 0.04 | Ga | < 0.01 |
| P | < 0.01 | Ge | < 0.05 |
| S | < 0.04 | As | < 0.005 |
| K | < 0.05 | In | < 0.01 |
| Ca | < 0.05 | Sn | < 0.01 |
| Ti | < 0.005 | Sb | < 0.01 |
| V | < 0.001 | W | < 0.05 |
| Cr | < 0.05 | Te | < 0.01 |
| Mn | < 0.005 | Pb | < 0.01 |
| Fe | < 0.05 | Bi | < 0.05 |
| Ni | < 0.01 |
|
