అధిక నాణ్యత మరియు తక్కువ ఖర్చుతో కూడిన టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూత

అధిక నాణ్యత మరియు ఖర్చుతో కూడుకున్న టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూత ఫీచర్ చేయబడిన చిత్రం

సంక్షిప్త వివరణ:

పోరస్ టాంటాలమ్ కార్బైడ్ ప్రధానంగా గ్యాస్ ఫేజ్ కాంపోనెంట్ వడపోత, స్థానిక ఉష్ణోగ్రత ప్రవణతను సర్దుబాటు చేయడం, మెటీరియల్ ప్రవాహ దిశను మార్గనిర్దేశం చేయడం, లీకేజీని నియంత్రించడం మొదలైన వాటి కోసం ఉపయోగించబడుతుంది. ఇది స్థానిక భాగాలను రూపొందించడానికి సెమిసెరా టెక్నాలజీ నుండి మరొక ఘన టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (కాంపాక్ట్) లేదా టాంటాలమ్ కార్బైడ్ పూతతో ఉపయోగించవచ్చు. విభిన్న ప్రవాహ వాహకతతో.

మాకు ఇమెయిల్ పంపండి

ఉత్పత్తి వివరాలు

ఉత్పత్తి ట్యాగ్‌లు

సెమిసెరా వివిధ భాగాలు మరియు క్యారియర్‌ల కోసం ప్రత్యేకమైన టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూతలను అందిస్తుంది.సెమిసెరా లీడింగ్ కోటింగ్ ప్రక్రియ టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూతలను అధిక స్వచ్ఛత, అధిక ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం మరియు అధిక రసాయన సహనాన్ని సాధించేలా చేస్తుంది, SIC/GAN స్ఫటికాలు మరియు EPI లేయర్‌ల ఉత్పత్తి నాణ్యతను మెరుగుపరుస్తుంది (గ్రాఫైట్ పూత కలిగిన TaC ససెప్టర్), మరియు కీలకమైన రియాక్టర్ భాగాల జీవితాన్ని పొడిగించడం. టాంటాలమ్ కార్బైడ్ TaC పూత యొక్క ఉపయోగం అంచు సమస్యను పరిష్కరించడం మరియు క్రిస్టల్ పెరుగుదల నాణ్యతను మెరుగుపరచడం, మరియు సెమిసెరా టాంటాలమ్ కార్బైడ్ పూత సాంకేతికతను (CVD) పరిష్కరించి అంతర్జాతీయ అధునాతన స్థాయికి చేరుకుంది.

సంవత్సరాల అభివృద్ధి తర్వాత, సెమిసెరా సాంకేతికతను జయించిందిCVD TaCR&D శాఖ సంయుక్త ప్రయత్నాలతో. SiC పొరల పెరుగుదల ప్రక్రియలో లోపాలు సంభవించడం సులభం, కానీ ఉపయోగించిన తర్వాతTaC, వ్యత్యాసం ముఖ్యమైనది. క్రింద TaCతో మరియు లేకుండా పొరల పోలిక, అలాగే సింగిల్ క్రిస్టల్ పెరుగుదల కోసం సెమిసెరా భాగాలు

గ్రోత్ సింగిల్ క్రిస్టల్ కోసం టాక్ పార్ట్

యాంటీవేర్ టాంటాలమ్ కార్బైడ్ పూత_ దుస్తులు మరియు తుప్పు నుండి పరికరాలను రక్షిస్తుంది ఫీచర్ చేసిన చిత్రం

TaC పూతతో కూడిన రింగ్‌తో గ్రాఫైట్

TaC తో మరియు లేకుండా

TaC (కుడి) ఉపయోగించిన తర్వాత

అదనంగా, సెమిసెరా యొక్క TaC కోటింగ్ ఉత్పత్తుల యొక్క సేవా జీవితం SiC పూత కంటే ఎక్కువ మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రతకు ఎక్కువ నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది. చాలా కాలం పాటు ప్రయోగశాల కొలత డేటా తర్వాత, మా TaC గరిష్టంగా 2300 డిగ్రీల సెల్సియస్ వద్ద ఎక్కువ కాలం పని చేస్తుంది. మా నమూనాలలో కొన్ని క్రిందివి: