పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూతయొక్క పలుచని పొరపైరోలైటిక్ కార్బన్ పూతఅత్యంత శుద్ధి చేయబడిన ఐసోస్టాటిక్ ఉపరితలంపైరసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) సాంకేతికతను ఉపయోగించి గ్రాఫైట్. ఇది అధిక సాంద్రత, అధిక స్వచ్ఛత మరియు అనిసోట్రోపిక్ కలిగి ఉంటుందిఉష్ణ, విద్యుత్, అయస్కాంత మరియు యాంత్రిక లక్షణాలు.
ప్రధాన లక్షణాలు:
1. ఉపరితలం దట్టమైనది మరియు రంధ్రాలు లేకుండా ఉంటుంది.
2. అధిక స్వచ్ఛత, మొత్తం అశుద్ధ కంటెంట్<20ppm,మంచి గాలి చొరబడుట.
3.అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, పెరుగుతున్న వినియోగ ఉష్ణోగ్రతతో బలం పెరుగుతుంది, అత్యధిక స్థాయికి చేరుకుంటుందివిలువ 2750 ℃, సబ్లిమేషన్ 3600 ℃.
4.తక్కువ సాగే మాడ్యులస్, అధిక ఉష్ణ వాహకత, తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం,మరియు అద్భుతమైన థర్మల్ షాక్ నిరోధకత.
5.మంచి రసాయన స్థిరత్వం, యాసిడ్, క్షార, ఉప్పు మరియు సేంద్రీయ కారకాలకు నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది మరియు కలిగి ఉంటుందికరిగిన లోహాలు, స్లాగ్ మరియు ఇతర తినివేయు మాధ్యమాలపై ఎటువంటి ప్రభావం ఉండదు. ఇది ఆక్సీకరణం చెందదుగణనీయంగా 400 ℃ కంటే తక్కువ వాతావరణంలో, మరియు ఆక్సీకరణ రేటు గణనీయంగా ఉంటుంది800 ℃ వద్ద పెరుగుతుంది.
6. అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద ఎటువంటి వాయువును విడుదల చేయకుండా, అది వాక్యూమ్‌ను నిర్వహించగలదు1800 ℃ వద్ద 10-7mmHg.
ఉత్పత్తి అప్లికేషన్:
1. బాష్పీభవనం కోసం ద్రవీభవన క్రూసిబుల్సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ.
2. హై పవర్ ఎలక్ట్రానిక్ ట్యూబ్ గేట్.
3. వోల్టేజ్ రెగ్యులేటర్‌ను సంప్రదించే బ్రష్.
4. ఎక్స్-రే మరియు న్యూట్రాన్ కోసం గ్రాఫైట్ మోనోక్రోమేటర్.
5. గ్రాఫైట్ సబ్‌స్ట్రేట్‌ల వివిధ ఆకారాలు మరియుపరమాణు శోషణ ట్యూబ్ పూత.
చెక్కుచెదరకుండా మరియు మూసివున్న ఉపరితలంతో 500X సూక్ష్మదర్శిని క్రింద పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూత ప్రభావం.
