ఘన SiC ఫోకస్ రింగ్

సెమిసెరా నుండి సాలిడ్ SiC ఫోకస్ రింగ్ అనేది అధునాతన సెమీకండక్టర్ తయారీ యొక్క డిమాండ్‌లను తీర్చడానికి రూపొందించబడిన అత్యాధునిక భాగం. అధిక స్వచ్ఛతతో తయారు చేయబడిందిసిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC), ఈ ఫోకస్ రింగ్ సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో, ప్రత్యేకించి, విస్తృత శ్రేణి అనువర్తనాలకు అనువైనదిCVD SiC ప్రక్రియలు, ప్లాస్మా ఎచింగ్, మరియుICPRIE (ఇండక్టివ్లీ కపుల్డ్ ప్లాస్మా రియాక్టివ్ అయాన్ ఎచింగ్). అసాధారణమైన దుస్తులు నిరోధకత, అధిక ఉష్ణ స్థిరత్వం మరియు స్వచ్ఛతకు ప్రసిద్ధి చెందింది, ఇది అధిక-ఒత్తిడి వాతావరణంలో దీర్ఘకాలిక పనితీరును నిర్ధారిస్తుంది.

సెమీకండక్టర్‌లోపొరప్రాసెసింగ్, డ్రై ఎచింగ్ మరియు వేఫర్ ఎచింగ్ అప్లికేషన్‌ల సమయంలో ఖచ్చితమైన ఎచింగ్‌ను నిర్వహించడంలో సాలిడ్ సిసి ఫోకస్ రింగ్‌లు కీలకమైనవి. SiC ఫోకస్ రింగ్ ప్లాస్మా ఎచింగ్ మెషిన్ ఆపరేషన్ల వంటి ప్రక్రియల సమయంలో ప్లాస్మాను ఫోకస్ చేయడంలో సహాయపడుతుంది, ఇది సిలికాన్ పొరల చెక్కడం కోసం ఇది ఎంతో అవసరం. ఘన SiC పదార్థం కోతకు అసమానమైన ప్రతిఘటనను అందిస్తుంది, మీ పరికరాల దీర్ఘాయువును నిర్ధారిస్తుంది మరియు పనికిరాని సమయాన్ని తగ్గిస్తుంది, ఇది సెమీకండక్టర్ ఫాబ్రికేషన్‌లో అధిక నిర్గమాంశను నిర్వహించడానికి అవసరం.

సెమిసెరా నుండి సాలిడ్ SiC ఫోకస్ రింగ్ అనేది సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో సాధారణంగా ఎదుర్కొనే తీవ్రమైన ఉష్ణోగ్రతలు మరియు దూకుడు రసాయనాలను తట్టుకునేలా రూపొందించబడింది. వంటి అధిక-ఖచ్చితమైన పనులలో ఉపయోగించడం కోసం ఇది ప్రత్యేకంగా రూపొందించబడిందిCVD SiC పూతలు, ఇక్కడ స్వచ్ఛత మరియు మన్నిక ప్రధానమైనవి. థర్మల్ షాక్‌కు అద్భుతమైన ప్రతిఘటనతో, ఈ ఉత్పత్తి సమయంలో అధిక ఉష్ణోగ్రతలకు గురికావడంతో సహా కఠినమైన పరిస్థితుల్లో స్థిరమైన మరియు స్థిరమైన పనితీరును నిర్ధారిస్తుంది.పొరచెక్కడం ప్రక్రియలు.