సెమిసెరా వివిధ భాగాలు మరియు క్యారియర్‌ల కోసం ప్రత్యేకమైన టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూతలను అందిస్తుంది.సెమిసెరా లీడింగ్ కోటింగ్ ప్రక్రియ టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూతలను అధిక స్వచ్ఛత, అధిక ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం మరియు అధిక రసాయన సహనాన్ని సాధించేలా చేస్తుంది, SIC/GAN స్ఫటికాలు మరియు EPI లేయర్‌ల ఉత్పత్తి నాణ్యతను మెరుగుపరుస్తుంది (గ్రాఫైట్ పూత కలిగిన TaC ససెప్టర్), మరియు కీలకమైన రియాక్టర్ భాగాల జీవితాన్ని పొడిగించడం. టాంటాలమ్ కార్బైడ్ TaC పూత యొక్క ఉపయోగం అంచు సమస్యను పరిష్కరించడం మరియు క్రిస్టల్ పెరుగుదల నాణ్యతను మెరుగుపరచడం, మరియు సెమిసెరా టాంటాలమ్ కార్బైడ్ పూత సాంకేతికతను (CVD) పరిష్కరించి అంతర్జాతీయ అధునాతన స్థాయికి చేరుకుంది.
మూడవ తరం సెమీకండక్టర్లలో సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) కీలకమైన పదార్థం, అయితే దాని దిగుబడి రేటు పరిశ్రమ వృద్ధికి పరిమితం చేసే అంశం. సెమిసెరా యొక్క ప్రయోగశాలలలో విస్తృతమైన పరీక్షల తర్వాత, స్ప్రే చేయబడిన మరియు సిన్టర్ చేయబడిన TaCకి అవసరమైన స్వచ్ఛత మరియు ఏకరూపత లేదని కనుగొనబడింది. దీనికి విరుద్ధంగా, CVD ప్రక్రియ 5 PPM యొక్క స్వచ్ఛత స్థాయిని మరియు అద్భుతమైన ఏకరూపతను నిర్ధారిస్తుంది. CVD TaC వాడకం సిలికాన్ కార్బైడ్ పొరల దిగుబడి రేటును గణనీయంగా మెరుగుపరుస్తుంది. మేము చర్చలను స్వాగతిస్తున్నాముటాంటాలమ్ కార్బైడ్ CVD కోటింగ్ గైడ్ రింగ్ SiC పొరల ఖర్చులను మరింత తగ్గించడానికి.
TaC తో మరియు లేకుండా
TaC (కుడి) ఉపయోగించిన తర్వాత
అంతేకాకుండా, సెమిసెరా యొక్కTaC పూతతో కూడిన ఉత్పత్తులుతో పోలిస్తే సుదీర్ఘ సేవా జీవితాన్ని మరియు ఎక్కువ అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిరోధకతను ప్రదర్శిస్తుందిSiC పూతలు.ప్రయోగశాల కొలతలు మా అని నిరూపించాయిTaC పూతలుఎక్కువ కాలం పాటు 2300 డిగ్రీల సెల్సియస్ వరకు ఉష్ణోగ్రత వద్ద స్థిరంగా పని చేయవచ్చు. మా నమూనాల యొక్క కొన్ని ఉదాహరణలు క్రింద ఉన్నాయి:
