నీలం/ఆకుపచ్చ LED ఎపిటాక్సీ

చిన్న వివరణ:

మా కంపెనీ గ్రాఫైట్, సిరామిక్స్ మరియు ఇతర పదార్థాల ఉపరితలంపై CVD పద్ధతి ద్వారా SiC కోటింగ్ ప్రాసెస్ సేవలను అందిస్తుంది, తద్వారా కార్బన్ మరియు సిలికాన్ కలిగిన ప్రత్యేక వాయువులు అధిక స్వచ్ఛత SiC అణువులను పొందేందుకు అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద ప్రతిస్పందిస్తాయి, పూత పదార్థాల ఉపరితలంపై నిక్షిప్తం చేయబడిన అణువులు, SIC రక్షణ పొరను ఏర్పరుస్తుంది.


ఉత్పత్తి వివరాలు

ఉత్పత్తి ట్యాగ్‌లు

ప్రధాన లక్షణాలు:

1. అధిక ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ నిరోధకత:

ఉష్ణోగ్రత 1600 C కంటే ఎక్కువగా ఉన్నప్పుడు ఆక్సీకరణ నిరోధకత చాలా బాగుంది.

2. అధిక స్వచ్ఛత : అధిక ఉష్ణోగ్రత క్లోరినేషన్ స్థితిలో రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ద్వారా తయారు చేయబడింది.

3. ఎరోషన్ నిరోధకత: అధిక కాఠిన్యం, కాంపాక్ట్ ఉపరితలం, చక్కటి కణాలు.

4. తుప్పు నిరోధకత: యాసిడ్, క్షార, ఉప్పు మరియు సేంద్రీయ కారకాలు.

 యొక్క ప్రధాన లక్షణాలుCVD-SIC పూత

SiC-CVD లక్షణాలు

క్రిస్టల్ నిర్మాణం FCC β దశ
సాంద్రత g/cm ³ 3.21
కాఠిన్యం వికర్స్ కాఠిన్యం 2500
ధాన్యం పరిమాణం μm 2~10
రసాయన స్వచ్ఛత % 99.99995
ఉష్ణ సామర్థ్యం J·kg-1 ·K-1 640
సబ్లిమేషన్ ఉష్ణోగ్రత 2700
Felexural బలం MPa (RT 4-పాయింట్) 415
యంగ్స్ మాడ్యులస్ Gpa (4pt బెండ్, 1300℃) 430
థర్మల్ విస్తరణ (CTE) 10-6K-1 4.5
ఉష్ణ వాహకత (W/mK) 300

 

 
LED ఎపిటాక్సీ
未标题-1

  • మునుపటి:
  • తరువాత: