గాలియం నైట్రైడ్ సబ్‌స్ట్రేట్స్|GaN పొరలు

సంక్షిప్త వివరణ:

సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) మెటీరియల్స్ వంటి గాలియం నైట్రైడ్ (GaN), పెద్ద బ్యాండ్ గ్యాప్ వెడల్పు, అధిక ఉష్ణ వాహకత, అధిక ఎలక్ట్రాన్ సంతృప్త మైగ్రేషన్ రేటు మరియు అధిక బ్రేక్‌డౌన్ ఎలక్ట్రిక్ ఫీల్డ్ అత్యుత్తమ బ్యాండ్ గ్యాప్ వెడల్పుతో మూడవ తరం సెమీకండక్టర్ పదార్థాలకు చెందినది. లక్షణాలు.GaN పరికరాలు LED శక్తి-పొదుపు లైటింగ్, లేజర్ ప్రొజెక్షన్ డిస్ప్లే, కొత్త శక్తి వాహనాలు, స్మార్ట్ గ్రిడ్, 5G కమ్యూనికేషన్ వంటి అధిక పౌనఃపున్యం, అధిక వేగం మరియు అధిక శక్తి డిమాండ్ ఫీల్డ్‌లలో విస్తృత శ్రేణి అప్లికేషన్ అవకాశాలను కలిగి ఉన్నాయి.


ఉత్పత్తి వివరాలు

ఉత్పత్తి ట్యాగ్‌లు

GaN పొరలు

మూడవ తరం సెమీకండక్టర్ మెటీరియల్‌లలో ప్రధానంగా SiC, GaN, డైమండ్ మొదలైనవి ఉంటాయి, ఎందుకంటే దాని బ్యాండ్ గ్యాప్ వెడల్పు (ఉదా) 2.3 ఎలక్ట్రాన్ వోల్ట్‌ల (eV) కంటే ఎక్కువ లేదా సమానంగా ఉంటుంది, దీనిని వైడ్ బ్యాండ్ గ్యాప్ సెమీకండక్టర్ మెటీరియల్స్ అని కూడా పిలుస్తారు. మొదటి మరియు రెండవ తరం సెమీకండక్టర్ పదార్థాలతో పోలిస్తే, మూడవ తరం సెమీకండక్టర్ పదార్థాలు అధిక ఉష్ణ వాహకత, అధిక విచ్ఛిన్న విద్యుత్ క్షేత్రం, అధిక సంతృప్త ఎలక్ట్రాన్ వలస రేటు మరియు అధిక బంధన శక్తి యొక్క ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంటాయి, ఇవి ఆధునిక ఎలక్ట్రానిక్ సాంకేతిక పరిజ్ఞానం యొక్క కొత్త అవసరాలను తీర్చగలవు. ఉష్ణోగ్రత, అధిక శక్తి, అధిక పీడనం, అధిక ఫ్రీక్వెన్సీ మరియు రేడియేషన్ నిరోధకత మరియు ఇతర కఠినమైన పరిస్థితులు. ఇది జాతీయ రక్షణ, ఏవియేషన్, ఏరోస్పేస్, చమురు అన్వేషణ, ఆప్టికల్ స్టోరేజ్ మొదలైన రంగాలలో ముఖ్యమైన అప్లికేషన్ అవకాశాలను కలిగి ఉంది మరియు బ్రాడ్‌బ్యాండ్ కమ్యూనికేషన్స్, సోలార్ ఎనర్జీ, ఆటోమొబైల్ తయారీ, వంటి అనేక వ్యూహాత్మక పరిశ్రమలలో శక్తి నష్టాన్ని 50% కంటే ఎక్కువ తగ్గించగలదు. సెమీకండక్టర్ లైటింగ్, మరియు స్మార్ట్ గ్రిడ్, మరియు పరికరాల వాల్యూమ్‌ను 75% కంటే ఎక్కువ తగ్గించవచ్చు, ఇది మైలురాయి ప్రాముఖ్యత కలిగి ఉంది మానవ శాస్త్రం మరియు సాంకేతికత అభివృద్ధి కోసం.

 

అంశం 项目

GaN-FS-CU-C50

GaN-FS-CN-C50

GaN-FS-C-SI-C50

వ్యాసం
晶圆直径

50.8 ± 1 మిమీ

మందం厚度

350 ± 25 μm

ఓరియంటేషన్
晶向

C ప్లేన్ (0001) ఆఫ్ కోణం M-యాక్సిస్ 0.35 ± 0.15° వైపు

ప్రైమ్ ఫ్లాట్
主定位边

(1-100) 0 ± 0.5°, 16 ± 1 మిమీ

సెకండరీ ఫ్లాట్
次定位边

(11-20) 0 ± 3°, 8 ± 1 మిమీ

వాహకత
导电性

N-రకం

N-రకం

సెమీ-ఇన్సులేటింగ్

రెసిస్టివిటీ (300K)
电阻率

< 0.1 Ω·సెం

< 0.05 Ω·సెం

> 106 Ω· సెం.మీ

టిటివి
平整度

≤ 15 μm

విల్లు
弯曲度

≤ 20 μm

Ga ముఖం ఉపరితల కరుకుదనం
Ga面粗糙度

<0.2 nm (పాలిష్);

లేదా <0.3 nm (ఎపిటాక్సీ కోసం పాలిష్ మరియు ఉపరితల చికిత్స)

N ముఖ ఉపరితల కరుకుదనం
N面粗糙度

0.5 ~1.5 μm

ఎంపిక: 1 ~ 3 nm (ఫైన్ గ్రౌండ్); < 0.2 nm (పాలిష్)

డిస్‌లోకేషన్ డెన్సిటీ
位错密度

1 x 105 నుండి 3 x 106 cm-2 వరకు (CL ద్వారా లెక్కించబడుతుంది)*

మాక్రో డిఫెక్ట్ డెన్సిటీ
缺陷密度

< 2 cm-2

ఉపయోగించదగిన ప్రాంతం
有效面积

> 90% (అంచులు మరియు స్థూల లోపాల మినహాయింపు)

కస్టమర్ అవసరాలు, సిలికాన్ యొక్క విభిన్న నిర్మాణం, నీలమణి, SiC ఆధారిత GaN ఎపిటాక్సియల్ షీట్ ప్రకారం అనుకూలీకరించవచ్చు.

సెమిసెరా పని ప్రదేశం సెమిసెరా పని ప్రదేశం 2 సామగ్రి యంత్రం CNN ప్రాసెసింగ్, రసాయన శుభ్రపరచడం, CVD పూత మా సేవ


  • మునుపటి:
  • తదుపరి: